एल्यूमिना पहनने-प्रतिरोधी सिरेमिक की सटीक मशीनिंग प्रक्रिया में सुधार कैसे करें?

वर्तमान में, एल्यूमिना सिरेमिक सामग्रियां बाजार में काफी आम हैं, जो एल्यूमिना के रासायनिक गुणों का उपयोग करती हैं लेकिन एल्यूमिना को सिरेमिक के साथ नहीं जोड़ती हैं। समान प्रक्रिया मार्ग वाली अन्य सामग्रियों की तुलना में, इस एल्यूमिना सिरेमिक सामग्री में तापीय चालकता और लचीलापन में महत्वपूर्ण फायदे हैं। उत्पादों की प्रसंस्करण सटीकता में सुधार करने के लिए, अधिकांश एल्यूमिना सिरेमिक सामग्रियों को उच्च सतह चिकनाई प्राप्त करने के लिए सिंटरिंग के बाद आगे संसाधित करने की आवश्यकता होती है। लेकिन आख़िरकार एल्यूमिना सिरेमिक कोई साधारण सामग्री नहीं है, इसकी सटीक मशीनिंग प्रक्रिया कैसे बेहतर हो सकती है?
एल्यूमिना सिरेमिक सामग्री की उच्च कठोरता के कारण, प्रक्रिया को पूरा करने के लिए सिलिकॉन कार्बाइड, बी4सी, या डायमंड ड्रिल बिट्स जैसी कठोर पीसने और पॉलिश करने वाली सामग्री का उपयोग करना आवश्यक है। प्रसंस्करण के दौरान, एल्यूमिना सिरेमिक सामग्री की सतह की चिकनाई में पहले से सुधार किया जाना चाहिए।
एल्यूमिना सिरेमिक सामग्रियों की सटीक मशीनिंग में, एक सामान्य विधि मोटे से बारीक अपघर्षक को चरण दर चरण पीसना है, और फिर बाहरी पॉलिशिंग में, पॉलिशिंग पीसने और पॉलिश करने के लिए 1 μ से छोटे माइक्रोन एल्यूमिना माइक्रो पाउडर या डायमंड ड्रिल पेस्ट का चयन कर सकती है। बेशक, लेजर प्रसंस्करण और अल्ट्रासोनिक प्रसंस्करण भी एल्यूमिना सिरेमिक को पीसने और चमकाने के उद्देश्य को प्राप्त कर सकते हैं।
इसका उद्देश्य एल्यूमिना सिरेमिक की सतह की चिकनाई में सुधार करना है, जिससे एल्यूमिना सिरेमिक की यांत्रिक शक्ति में वृद्धि होगी, यानी एल्यूमिना सिरेमिक की मजबूत तकनीक। वास्तव में, एल्यूमिना सिरेमिक की उपस्थिति इलेक्ट्रॉन बीम वैक्यूम कोटिंग, स्पटरिंग वैक्यूम कोटिंग, या रासायनिक वाष्प वाष्पीकरण कोटिंग जैसी उन्नत तकनीकों को अपनाती है, जो एल्यूमिना सिरेमिक को सख्त करने में सक्षम बनाती है।
ये विधियाँ एल्यूमिना सिरेमिक की सतह पर सिलिकॉन मिश्रित फिल्म की एक परत चढ़ा सकती हैं। केवल 1200 डिग्री ~1580 डिग्री पर गर्म करके ही एल्यूमिना सिरेमिक को सख्त किया जा सकता है। इस आधार पर, प्रबलित एल्यूमिना सिरेमिक की यांत्रिक शक्ति में काफी सुधार किया जा सकता है, और अल्ट्रा-उच्च शक्ति एल्यूमिना सिरेमिक प्राप्त किया जा सकता है।